众所周知，华为Mate60系列中采用的麒麟9000S芯片，如同深海的潜雷，给整个智能手机和芯片行业带来了震动。
这款芯片被众多网友赞誉为神作，被视作在被打压四年后的重大突破，标志着我们掌握了7nm技术。这象征着我们突破了美国的技术封锁，对美国形成了强烈的打击，使得美国阻挠我们在14nm以上技术发展的图谋未能成功。
芯片的成功问世后，业内专家也预测美国可能会有三种反应：
1. 忽视这一突破，维持原有的禁令状态。
2. 解除禁令，认为既然封锁失败，不如解封来让美国的芯片和半导体设备制造商有机会赚更多钱，保住市场份额。
3. 加强禁令，既然之前的封锁未奏效，可能会进一步加严，以测试新的限制效果。
在这三种可能的反应中，第二种几乎不可能发生，第一种在当前的形势下也不太可能，因为这款芯片的影响太过广泛，美国出于面子考虑不可能视而不见。
因此，许多人认为，美国很可能采取第三种策略，即进一步升级禁令，对半导体设备等施加更严格的限制，以封堵芯片制造的可能。
果不其然，最近美国对中国的芯片行业的禁令进行了进一步升级，特别是对光刻机技术提出了更精确的要求，比如对于193nm波长且分辨率低于40nm的光刻机，其DCO值必须不小于2.4，而去年这个数值是1.5。
这一微小的修改直接限制了ASML的浸润式光刻机的销售，因为目前市面上销售的浸润式光刻机DCO值都低于2.4。按照新的禁令，这些设备将无法销售。
而行业普遍认为，在没有EUV光刻机的情况下，要想生产7nm芯片，必须使用浸润式光刻机进行多次曝光，而普通的非浸润式光刻机无法实现7nm生产，因此新的限制显然针对的是谁，不言自明。
那么，麒麟9000S会被限制吗？目前看来不会，因为在禁令实施前，我们已经购入了足够多的浸润式光刻机，生产能力应当不成问题。
但长远来看，核心问题还是我们需要自主研发光刻机，这样才能真正解决问题。如果依赖外部设备，美国可以持续升级禁令，逐步加强限制，最终达到彻底封锁中国芯片产业的目标。只有当我们拥有自己的技术时，我们才能真正摆脱束缚，确保技术自主不受他国控制。
