眾所周知，華為Mate60系列中采用的麒麟9000S芯片，如同深海的潛雷，給整個智慧型手機和芯片行業帶來了震動。
這款芯片被眾多網友贊譽為神作，被視作在被打壓四年後的重大突破，標誌著我們掌握了7nm技術。這象征著我們突破了美國的技術封鎖，對美國形成了強烈的打擊，使得美國阻撓我們在14nm以上技術發展的圖謀未能成功。
芯片的成功問世後，業內專家也預測美國可能會有三種反應：
1. 忽視這一突破，維持原有的禁令狀態。
2. 解除禁令，認為既然封鎖失敗，不如解封來讓美國的芯片和半導體裝置制造商有機會賺更多錢，保住市場份額。
3. 加強禁令，既然之前的封鎖未奏效，可能會進一步加嚴，以測試新的限制效果。
在這三種可能的反應中，第二種幾乎不可能發生，第一種在當前的形勢下也不太可能，因為這款芯片的影響太過廣泛，美國出於面子考慮不可能視而不見。
因此，許多人認為，美國很可能采取第三種策略，即進一步升級禁令，對半導體裝置等施加更嚴格的限制，以封堵芯片制造的可能。
果不其然，最近美國對中國的芯片行業的禁令進行了進一步升級，特別是對光刻機技術提出了更精確的要求，比如對於193nm波長且分辨率低於40nm的光刻機，其DCO值必須不小於2.4，而去年這個數值是1.5。
這一微小的修改直接限制了ASML的浸潤式光刻機的銷售，因為目前市面上銷售的浸潤式光刻機DCO值都低於2.4。按照新的禁令，這些裝置將無法銷售。
而行業普遍認為，在沒有EUV光刻機的情況下，要想生產7nm芯片，必須使用浸潤式光刻機進行多次曝光，而普通的非浸潤式光刻機無法實作7nm生產，因此新的限制顯然針對的是誰，不言自明。
那麽，麒麟9000S會被限制嗎？目前看來不會，因為在禁令實施前，我們已經購入了足夠多的浸潤式光刻機，生產能力應當不成問題。
但長遠來看，核心問題還是我們需要自主研發光刻機，這樣才能真正解決問題。如果依賴外部裝置，美國可以持續升級禁令，逐步加強限制，最終達到徹底封鎖中國芯片產業的目標。只有當我們擁有自己的技術時，我們才能真正擺脫束縛，確保技術自主不受他國控制。
